在本文中，我们将讨论与化学应用和化学工业相关的介质研磨技术。化学应用包括材料、化学工艺和化学工业中使用的操作(包括介质研磨技术)的广泛物理化学知识。介质研磨技术在固体化学加工的三个主要领域具有重要意义。..个领域是研磨物料的粒度减小;第二种是混合和研磨几种物质以形成新的混合物;第三个领域是原料的活化或释放。随着研磨在化工行业的广泛应用，正确选择研磨设备变得至关重要。下面就跟着四川研磨设备小编一起了解吧~

有许多不同类型的研磨设备，如球研磨设备，更适合原材料的粗磨处理。这些工厂使用的“大”介质的尺寸从20毫米不等，并且可以生产大约10微米到网目尺寸的材料。其他研磨设备，如Attritors(立式搅拌磨)，更适合“中等”粒度的颗粒。使用3至10mm的磨介可生产出粒度约为1至10微米的材料。研磨技术的.新进展是针对超细粒度亚微米或纳米级的应用。这些高性能小磨介砂研磨设备通过使用0.1至1mm大小的磨介生产亚微米级的粒度。

..台小型、中型磨粉机是20世纪50年代杜邦公司开发的立式砂研磨设备。从那时起，出现了新的研磨技术，从球研磨设备到卧式磨，到窄间隙研磨设备，再到近几年开发的高速循环砂研磨设备。

如前所述，不同类型的研磨设备适用于不同的加工要求。在选择研磨设备类型和磨介尺寸时，需要考虑几个重要因素。一般来说，进料越粗，研磨介质就应该越大、越致密。由于可能产生更大的冲击力，因此需要更大、更重的介质。还应考虑.终粒径，所需的末端粒度越细，研磨介质应越小。由于可用于进行精细研磨的表面积较大，因此小磨介对更细的端部颗粒尺寸更有效。

一些高效的生产工艺是利用、结合两种研磨技术的优势进行互补。高效研磨的一个例子是使用诸如Attritor(立式搅拌磨)之类的研磨设备进行..阶段研磨，.后的超细研磨使用小磨介砂研磨设备进行的。这两个阶段的过程.大限度地提高了两种研磨技术的效率。

研磨设备和磨介选择过程中需要考虑的另一个重要方面是与物料接触的结构材料。加工高纯或高活性材料时，通常需要研磨设备接触部件尽可能纯度一致、惰性和无污染。在这些情况下，研磨设备接触零件和研磨介质可以由各种类型的不锈钢或陶瓷制成。一些研磨设备部件也可以内衬或涂覆不同类型的聚合物。

立式循环研磨设备—Q系列

近年来，许多涂料、氮化硅、氧化铝等材料供应商将他们的注意力集中在一种“新”类型的“高速循环研磨”上，以实现优异的分散性。实际上，这种“高速循环研磨”并不是一种“新”技术。1976年，Andrew Szegvari博士(UNION PROCESS的创始人)获得了这种快速循环研磨的..。基于此技术，设计并制造了Q系列设备(图1)。多年来，数百个不同行业在其研磨过程中成功应用了Q系列设备。

Q系列 Attritor(立式搅拌磨)将研磨主机与配备了高速分散器和低速挂壁搅拌的大型预混缸结合在一起。(图2)。研磨设备设计用于高速循环研磨，预混缸中的所有研磨物料每7-8分钟通过研磨室1次或每小时通过大约8次。这种泵速度高，物料分散均匀、粒度分布窄以及更快的研磨。Q系列中使用的磨介大小范围为3mm到10mm。

GT是小磨介砂磨机家族的.新成员。它可将部分物料研磨到100nm以下甚至更细，特殊设计的“TEETH”研磨结构多组排列。这种专有设计消除了轴摆动和研磨振动，同时提供了更大的随机磨介运动，以提高研磨效率。GT系列设计使用0.2mm至2.0mm的磨介。

与Deltamill一样，研磨齿可在整个研磨腔中提供定向均匀的磨介分布。研磨设备可用于连续和循环模式。所有研磨设备都可以使用无金属部件生产，用于某些陶瓷应用，这可能是一个考虑因素。

GT系列砂磨机采用研磨缸四周环形分离器设计。它由一系列圆环组成，环之间有适当尺寸的垫片，这种新设计消除了分离器堵塞。

由于这一位于研磨缸末端的坚固且大的开放式筛网区域，与其他研磨设备相比，维护和清洁要容易得多。将盖子从研磨缸端部拉开是一件简单的事情，这很容易将分离器取出来以便维修。

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